- Sections
- G - Physique
- G03F - Production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. pour l'impression, pour le traitement de dispositifs semi-conducteurs; matériaux à cet effet; originaux à cet effet; appareillages spécialement adaptés à cet effet
- G03F 1/72 - Réparation ou correction des défauts dans un masque
Détention brevets de la classe G03F 1/72
Brevets de cette classe: 227
Historique des publications depuis 10 ans
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7
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Propriétaires principaux
| Proprétaire |
Total
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Cette classe
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|---|---|---|
| Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | 36809 |
42 |
| Carl Zeiss SMT GmbH | 2646 |
38 |
| Carl Zeiss SMS Ltd. | 44 |
21 |
| ASML Netherlands B.V. | 6816 |
11 |
| Samsung Electronics Co., Ltd. | 131630 |
10 |
| Kioxia Corporation | 9847 |
10 |
| Intel Corporation | 45621 |
6 |
| Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 3891 |
6 |
| KLA Corporation | 1223 |
6 |
| Applied Materials, Inc. | 16587 |
5 |
| Hoya Corporation | 2822 |
4 |
| Changxin Memory Technologies, Inc. | 4732 |
4 |
| Siemens Industry Software Inc. | 1633 |
4 |
| United Microelectronics Corp. | 3921 |
3 |
| Photronics, Inc. | 47 |
3 |
| Toppan Printing Co., Ltd. | 2212 |
3 |
| Agc, Inc. | 4029 |
3 |
| Hitachi High-Tech Science Corporation | 326 |
2 |
| SK Hynix Inc. | 11030 |
2 |
| Synopsys, Inc. | 2829 |
2 |
| Autres propriétaires | 42 |